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日本光學(xué)交流法熱擴(kuò)散率測(cè)量裝置 LaserPIT 熱導(dǎo)式氣體分析儀

日本光學(xué)交流法熱擴(kuò)散率測(cè)量裝置 LaserPIT 熱導(dǎo)式氣體分析儀

更新日期:2024-05-14

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廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商

生產(chǎn)地址:

簡(jiǎn)要描述:
日本光學(xué)交流法熱擴(kuò)散率測(cè)量裝置 LaserPIT
本裝置是利用掃描激光加熱交流方式對(duì)薄膜、薄板、薄膜等薄板材料進(jìn)行面內(nèi)熱擴(kuò)散率測(cè)量的裝置。

日本光學(xué)交流法熱擴(kuò)散率測(cè)量裝置 LaserPIT

本裝置是利用掃描激光加熱交流方式對(duì)薄膜、薄板、薄膜等薄板材料進(jìn)行面內(nèi)熱擴(kuò)散率測(cè)量的裝置。
在高導(dǎo)熱薄膜的情況下,也可以測(cè)量亞微米薄膜。

  • CVD金剛石、氮化鋁等高導(dǎo)熱薄板材料(厚度<500μm)的熱擴(kuò)散率/熱導(dǎo)率測(cè)量

  • 銅、鎳、不銹鋼等各種金屬薄板材料(厚度>5μm)的熱擴(kuò)散率/熱導(dǎo)率測(cè)量

  • 玻璃、樹(shù)脂材料等低熱導(dǎo)率薄板材料(厚度<500μm)的熱擴(kuò)散率/熱導(dǎo)率測(cè)量

  • 高各向異性石墨片(厚度<100 μm)、聚酰亞胺、PET等聚合物薄膜(厚度> 5 μm)的熱擴(kuò)散率/熱導(dǎo)率測(cè)量

  • 測(cè)量在玻璃基板上形成的氮化鋁薄膜、氧化鋁薄膜(厚度100-300nm)等(厚度30μm)的熱導(dǎo)率

  • 形成于玻璃基板(厚度 0.03 mm)上的 DLC 薄膜(厚度 > 1 μm)的熱導(dǎo)率測(cè)量

  • 在PET基材(厚度0.1mm)上形成的有機(jī)染料薄膜(厚度100-300nm)的熱導(dǎo)率測(cè)量

  • 各種濺射靶材的評(píng)價(jià)

* 測(cè)量條件因材料和物理特性而異。所列條件僅供參考。

特征

  • 從金剛石到聚合物的各種薄片材料的面內(nèi)熱擴(kuò)散率測(cè)量

  • 適用于厚度為3至500微米的自支撐片材、薄膜、線(xiàn)材和纖維等多種材料

  • 在基板上形成的厚度為 100 nm 至 1000 nm 的薄膜的熱導(dǎo)率可以通過(guò)微分法測(cè)量 * 僅室溫

  • 可通過(guò)簡(jiǎn)單的操作進(jìn)行測(cè)量

  • 可通過(guò)專(zhuān)用軟件進(jìn)行控制、測(cè)量和分析

  • 主體緊湊地集成了所有光學(xué)、控制和測(cè)量系統(tǒng)

規(guī)格

模型激光PIT-RLaserPIT-M2
溫度范圍轉(zhuǎn)播時(shí)間室溫~200℃
交流電激光二極管(685nm,30mW)
樣品尺寸自支撐薄板:寬度 2.5 至 5 毫米 x 長(zhǎng)度 30 毫米 x 厚度 3 至 500 微米基
板上的薄膜:寬度 2.5 至 5 毫米 x 長(zhǎng)度 30 毫米 x 厚度 100 納米至 1000 納米
測(cè)量周期0.05~10/s
測(cè)量氣氛在真空中



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