通用CVD設(shè)備 MPCVD-50

通用CVD設(shè)備 MPCVD-50 是一種多功能管式爐式熱CVD設(shè)備，適用于各種應(yīng)用，例如CNT合成、碳膜形成、納米陶瓷膜形成、氮化以及硫族化物膜形成等。

該設(shè)備具有以下特點(diǎn)和功能：

1. 多功能應(yīng)用：MPCVD-50 可用于合成碳納米管（CNT）、在粉末樣品上沉積碳以及沉積各種CVD薄膜，如硫族化物層狀材料的氮化處理和成膜等。它的多功能性能使其適用范圍廣泛。

2. 氣體控制系統(tǒng)：設(shè)備配備三個(gè)質(zhì)量流量氣體流量控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)精確的氣體控制。這樣，用戶可以根據(jù)需要精準(zhǔn)地控制反應(yīng)氣體的流量和比例，確保反應(yīng)的質(zhì)量和可重復(fù)性。

3. 液體燃料引入系統(tǒng)：MPCVD-50 設(shè)備還配備了液體燃料（如乙醇）的引入系統(tǒng)，可應(yīng)用于無(wú)法安裝碳?xì)浠衔餁怏w的場(chǎng)所。這樣，用戶可以在不受氣體限制的情況下進(jìn)行實(shí)驗(yàn)和研究。

4. 高度可擴(kuò)展性：設(shè)備具有高度可擴(kuò)展性，可以輕松處理任何類型的處理需求。無(wú)論是在研究還是生產(chǎn)環(huán)境中，MPCVD-50 都能適應(yīng)不同規(guī)模和應(yīng)用的需求。

5. 具備標(biāo)配真空排氣系統(tǒng)：設(shè)備標(biāo)配真空排氣系統(tǒng)，可用作真空爐、氣氛爐等。這樣，用戶可以根據(jù)需要在不同的氣氛條件下進(jìn)行反應(yīng)和處理，并且具備更大的靈活性。

6. 緊湊堅(jiān)固的外殼設(shè)計(jì)：MPCVD-50 設(shè)備采用緊湊堅(jiān)固的外殼設(shè)計(jì)，易于安裝在桌面實(shí)驗(yàn)室工作臺(tái)等上。其精心設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)確保設(shè)備的穩(wěn)定性和可靠性。

此外，MPCVD-50 設(shè)備還配備了其他重要組件和功能，如管式爐、可編程溫度控制器、質(zhì)量流量控制器、波登管真空計(jì)、旋轉(zhuǎn)泵等。這些組件和功能的整合使得設(shè)備操作簡(jiǎn)便，效果穩(wěn)定可靠。

總而言之，通用CVD設(shè)備 MPCVD-50 具備多功能的應(yīng)用特性，適用于各種氣相沉積需求。其精確的氣體控制系統(tǒng)和液體燃料引入系統(tǒng)確保了精準(zhǔn)的實(shí)驗(yàn)和研究結(jié)果。設(shè)備的高度可擴(kuò)展性和緊湊堅(jiān)固的外殼設(shè)計(jì)使其成為實(shí)驗(yàn)室和生產(chǎn)環(huán)境中的理想選擇。